Skip to content Skip to navigation

仪器设备仪器展示

  • ET2000化学气相沉积

    技术指标:1、全套石英器件,4条独立控制气路(氩气、氢气、高、低流量甲烷),气体泄漏探测器。2、独立三温区,最高温度1100℃,恒温均匀性小于0.5℃。3、不小于98%面积的单层石墨烯。4、100mtorr至500torr真空可控,最低真空50mtorr,单独常压尾气排气管路。5、衬底大小:≤50mm×50mm或2英寸。

    应用领域:专利技术保证高质量石墨烯生长,成熟工艺程序。

    2016-09-06
  • SI 500D等离子增强化学气相沉积系统

    技术指标:1、反应腔室本底真空: ≤ 1×10-6mbar。2、反应腔衬底加热温度:20~350℃。3、ICP源功率范围:100~1200W。4、沉积材料:氧化硅、氮化硅、碳化硅。5、厚度均匀性:±5%(8英寸片)。

    应用领域:适用于低温条件下8寸片、4寸片及不规则片氧化硅、氮化硅、碳化硅膜的沉积。

    2016-09-06
  • TFS 200等离子增强原子层沉积系统

    技术指标:1、带手动基片传片器。2、热ALD和PEALD两种模式。3、热反应腔最大直径:200mm,最高加热温度:500℃。4、等离子反应腔最大直径:200mm,最高加热温度:450℃。5、样品尺寸:8英寸及以下。6、沉积材料:氧化铝、二氧化铪和氮化钛等纳米薄膜材料。7、厚度均匀性:≤±1.0% (4英寸),或≤±2.0% (8英寸)。

    应用领域:该系统具备热ALD沉积功能和等离子增强ALD工艺模式,可用于8英寸及以下尺寸的基底氧化铝、二氧化铪和氮化钛等纳米薄膜材料的沉积。

    2016-09-06
  • OAI光刻机

    技术指标:掩模版适用尺寸:五英寸;基片尺寸:4英寸及以下不规则形状基片;汞灯功率:350W;分辨率:2μm。

    应用领域:单面对准曝光。

    2016-09-06
  • Explorer-14 磁控溅射镀膜系统

    技术指标:1、3支3英寸磁控溅射靶。2、基片加热器采用高温加热材料,最高温度可达到600℃。3、真空性能:A. 极限真空(Ultimate Pressure):1E-7Torr;B. 真空抽速:30分钟从大气压抽到5E-6Torr;C.真空室漏率:5E-5Torr.L/s。4、镀膜均匀性和重复性:在4英寸衬底厚度均匀性优于±5%,重复性优于±3%。5、样品尺寸:≤6英寸。

    应用领域:主要用于加工沉积高质量、厚度精确控制的金属薄膜和介质薄膜。

    2016-09-06
  • SI500 电感耦合等离子刻蚀机

    技术指标:1、本底真空:<1x10-6 mbar(7.6x10-4 mTorr)。2、6路气体:六氟化硫、三氟甲烷、氩气、氧气、氮气(吹扫用)、氦气(背冷却用)。3、样品通过预真空室装载,碎片需使用载片器(托盘)。取-放系统保证了衬底操作的洁净与安全。预真空室有可编程的吹扫循环工艺、确保操作者安全和腔室洁净。4、一个射频发生器(13.56 MHz, 600 W)用于下电极偏置,另一个用于驱动ICP源(13.56 MHz, 1200 W)。5、样品尺寸:≤8英寸。

    应用领域:特别适用于刻蚀在半导体(例如硅)衬底上的微纳结构和介质膜。

    2016-09-06
  • LCF150QC激光划片机

    技术指标:激光功率:≥150W;功率稳定性:≤3%;激光束品质:M2≤1.2;聚焦光斑直径:≥30μm;行程:400x400mm;最大移动速度:800 ㎜/s。

    应用领域:该激光划片机用于硅片、对2mm以内的不锈钢、铝,1mm以内的蓝宝石、陶瓷等切割工艺。

    2016-09-06
  • 原子力显微镜

    技术指标:1、形变噪音:<20pm;2、XY传感器噪音:<60pm;Z传感器噪音:<50pm。使用大范围扫描(>1μm)的反馈增益设置仍可以在闭环扫描条件下得到清晰的原子晶格结构(<10nm)。

    应用领域:纳米AFM成像及纳米结构的电学、摩擦学等研究。

    2016-09-06
  • IDSpec ARCTIC显微共焦拉曼光谱仪

    技术指标:1、光谱灵敏度:Si的三阶峰信噪比好于15:1,能检测到Si的四阶峰。2、光谱重复性:≤ +/-0.2cm-1。3、光谱分辨率:≤1.5cm-1

    应用领域:主要用于物质的结构测定、成分分析和物理化学性质的测定。

    2016-09-06
  • SCG 高低温真空探针台

    技术指标:1、六个探针臂接口,可以安装六个探针臂。2、CF40 真空抽气口,一个快速破真空进气口。3、载物Chuck 温度范围:4K-500K ;CF法兰接口,系统极限真空优于5*10-6Pa。4、漏率优于:1.3*10-10Pa.M3/s;探针X-Y-Z三方向移动,行程:25.4mm,定位精度:10μm。5、双屏蔽chuck高低温时达到100FA 的测试精度。

    应用领域:能够实现样品在低温真空环境的测试,实现样品在10-4 PA 真空度,4.2K 到480K 任意温度点的精确电学测量。

    2016-09-06
  • Nicolet is10傅立叶红外光谱仪

    技术指标:光谱范围:7800~350 cm-1(标准);分辩率:0.4cm-1;峰-峰噪声:<1.3X10-5Abs;ASTM 线性度:<±0.1%T;波数精度:0.01cm-1

    应用领域:确认材料;识别未知物及混合物样品;辨认混合物成分。


    2016-09-06
  • XRD-7000 X射线衍射仪

    技术指标: X射线发生器最大输出:3KW;电压稳定度:0.0001%;测角仪:θ/θ测角仪;最小步进角度:0.0001°。

    应用领域:能精确地对石墨烯、粉末及体状材料样品的物相进行定性定量分析。

    2016-09-06